MH Niobium-doelzuiverheidsgraden beschikbaar

99,95% (4N) Niobiumdoelstelling

● Ultra-hoge zuiverheid met extreem lage metaal- en gasvormige onzuiverheden

● Stabiel plasma, lage deeltjesgeneratie

● Geschikt voor halfgeleider-, supergeleidende en hoogwaardige elektronische films-

99,9% (3N) Niobiumdoelstelling

● Hoge zuiverheid met uitstekende kosten-prestatieverhouding

● Betrouwbare sputterstabiliteit voor industriële coatingtoepassingen

● Geschikt voor algemene elektronische, optische en functionele coatings

MH Niobium-doelvormen

Wij leveren niobiumdoelen in meerdere geometrieën, passend bij verschillende sputtersystemen:

Rechthoekig / Vierkant Doel

● Planaire sputtersystemen

● Magnetronsputterkathodes

● Uniforme filmafzetting op grote- gebieden

Buisvormig doel

● Roterende sputtersystemen

● Hogere beoogde bezettingsgraad

● Verbeterde coatinguniformiteit en productie-efficiëntie

(Aangepaste afmetingen en verbindingsopties beschikbaar op aanvraag.)

Specificatiebereik van MH Niobium-doelwit

Zuiverheid	99.9%, 99.95%
Dikte	Groter dan of gelijk aan 99,9% van de theoretische dichtheid
Korrelstructuur	Fijn en uniform
Oppervlakteafwerking	Ra0,4
Rechthoekig / Vierkant Doel	Lengte kleiner dan of gelijk aan 3000 mm, breedte kleiner dan of gelijk aan 800 mm, dikte (mm) 1 ~ 20 mm
Buisvormig doel	Buitendiameter 10-400 mm, wand 2-28 mm

99,95% versus 99,9% – Selectiegids

Item	99,95% Nb-doelstelling	99,9% Nb-doelstelling
Zuiverheidsniveau	Ultra-hoge zuiverheid (4N)	Hoge zuiverheid (3N)
Onzuiverheid inhoud	Extreem laag	Laag
Filmkwaliteit	Hoogste uniformiteit en stabiliteit	Stabiel, industrieel-kwaliteit
Deeltjesgeneratie	Minimaal	Laag
Typische toepassingen	Halfgeleider, supergeleidende films, R&D	Optische coatings, functionele films, massaproductie
Kostenniveau	Hoger	Zuiniger

Rechthoekig versus buisvormig doel – Selectiegids

Vergelijking	Rechthoekig / Vierkant Doel	Buisvormig doel
Procescompatibiliteit	Planair sputteren, Magnetronsputteren	Cilindrisch sputteren
Materiaalgebruik	20%~30%	70%~85%
Aankoopkosten	Gematigd	Veel hoger dan de plaatdoelen
Productie-efficiëntie	Kleine batches, coatings met meerdere-variëteiten	Grote batches en continue coatings
Oppervlaktebehandeling	Fijn slijpen en polijsten	Fijn slijpen, moeilijker
Voorgestelde materialen	Zuiver niobium (99,95%), Nb-1Zr	Zuiver niobium (99,95%), Nb-1Zr (speciaal gebruik bij hoge temperaturen)

MH Niobium Doel Typische toepassingen

Dunne halfgeleiderfilms

Supergeleidende niobiumcoatings

Optische en decoratieve coatings

Display- en elektronische apparaten

Onderzoek en geavanceerde functionele films

Waarom kiezen voor MH Niobium-doelen

● Hoge zuiverheid en stabiele sputterprestaties

● Uniforme microstructuur en hoge dichtheid

● Meerdere geometrieën beschikbaar: rechthoekig en buisvormig

● Aangepaste afmetingen en lijmoplossingen

● Bewezen gebruik in geavanceerde coatingtoepassingen

Onze niobium-sputterdoelen leveren betrouwbare zuiverheid, consistent sputtergedrag en hoogwaardige filmprestaties- voor veeleisende dunne-filmtoepassingen.